HF是一種無色而又帶有辛辣氣味的刺激性氣體，易溶于水，無限溶于水后形成氫氟酸，是一種一元弱酸，有毒，對皮膚有腐蝕作用，也可經吸入途徑對人體造成傷害。氟化氫在工業上用途極其廣泛，常用于各種含氟化合物的制造，也可用作分析試劑，制造高純氟化物，而在電子工業或者說半導體工業制造中，常用作強酸性腐蝕劑，主要使用在酸洗、腐蝕、灰分處理等工藝上。

　　1273nm激光器采用量子阱結構的DFB激光器，內置半導體制冷器，標準封裝工藝實現蝶形尾纖式封裝，結構緊湊，體積小，在光纖通信領域得到廣泛應用；半導體制冷器高精度溫度控制下，激光器功率高穩定、波長高穩定的優勢，使得激光器在光纖傳感器領域得到廣泛應用。廣泛應用于石油化工、工業生產、煙氣尾氣環境監測、污水治理、生物制藥、家居環保、學校實驗室等領域。

　　1273nm激光器作用的原理：

　　產生激光的條件是粒子數反轉和增益大于損耗，所以裝置中的組成部分有激勵(或抽運)源、具有亞穩態能級的工作介質兩個部分。激勵是工作介質吸收外來能量后激發到激發態，為實現并維持粒子數反轉創造條件。激勵方式有光學激勵、電激勵、化學激勵和核能激勵等。工作介質具有亞穩能級是使受激輻射占主導地位,從而實現光放大。

　　激光器中常見的組成部分還有諧振腔，但諧振腔并非組成部分，諧振腔可使腔內的光子有一致的頻率、相位和運行方向，從而使激光具有良好的方向性和相干性。且，它可以很好地縮短工作物質的長度，還能通過改變諧振腔長度來調節所產生激光的模式，所以一般激光器都具有諧振腔。